Actinic tools for EUV resist characterization in research and production

Bellingham, Washington, USA / SPIE (2018) [Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband]

International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018 : 17-20 September 2018, Monterey, California, United States / Kurt G. Ronse, Eric Hendrickx, Patrick P. Naulleau, Paolo A. Gargini, Toshiro Itani (editors) ; sponsored by: SPIE
Seite(n): UNSP 108091V

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Lebert, Rainer
Missalla, T.
Phiesel, Christoph
Piel, Christian
Brose, Sascha

Weitere Autorinnen und Autoren

Danylyuk, Serhiy
Loosen, Peter
Bergmann, Klaus
Vieker, Jochen

Identifikationsnummern